Photoluminescence (PL) spectroscopy is a form of light emission spectroscopy in which the light emission comes from a process called photo-excitation. As the light is directed onto a sample
對稱X光繞射適用檢測單晶晶體或磊晶薄膜。通過對繞射峰寬的分析可以得知厚度、應力應變、及缺陷等資訊。
GIXRD的繞射角掃描模式，提供多晶、粉末或有機薄膜的結構或優選方位資料。
可鑑定未知結構。將數據與資料庫比對，可鑑定混雜相或利用Rietveld擬合，提供未知物質的結構資訊。也可用於測定晶體顆粒尺寸。
研究材料相變溫度點及其隨溫度改變之結構資訊、缺陷濃度、應力、或因溫度效應導至成分改變的結構轉變。
2D 奈米 X 射線螢光 (n-XRF) 分析可提供奈米級的詳細元素圖譜和高解析度成像，為研究人員和科學家提供有關樣品成分的寶貴見解。80nm光斑，可掃描樣品取得二維元素分佈。X光具有高穿深，比SEM提供更深層的元素訊息。樣品無需表處，搭配奈米繞射比對結構資訊。
空間解析力80 nm的勞厄繞射提供局域晶粒取向、應變、應力、缺陷錯位等資訊。搭配n-XRF提供元素成份及n-XEOL的光譜資訊。
元素近邊的吸收影像掃描，提供您材料在充放電、升降溫等原位條件下，材料的微區不均勻分佈資訊，協助您改善材料或元件性能。
穿透式X光顯微鏡利用毛細管聚光器，一階繞射具有60 nm的空間解析力，可進行二維吸收影像及三維斷層掃描分析。廣泛於用生物及軟物質、醫學影像、環境及能源、材料開發、岩石與古生物等可視化影像檢測。
掠角入射大角度散射訊號、高動量轉移、實空間中短距離的結構排列訊息、分子膜或纖維結構距離、分子團或晶體尺寸、層級結構
延伸X光吸收精細結構，利用超過吸收邊界能量的X光能譜震盪，來觀測材料中不同種類原子間的細微結構及電子組態等性質，是研究物質微觀的重要利器。主要測定原子之區域結構，得知原子與鄰近原子間距離、種類及數目等。
臨場原位電化學近邊吸收能譜，提供電化學反應、催化及電池能源材料在反應中暫態的電子組態資訊。
