X光散射藉由分析X光通過待測物後的散射強度，輔以入射X光能量（波長）、散射角度…等條件，用以了解待測物的晶體結構、化學組成及物理特性。其過程可外加如溫度、壓力、腐蝕等不同條件，以達到對待測物的通盤了解。而掠角入射X光廣角散射（GIWAXS），對於表面及薄膜內部的型態資訊（如分子尺寸、分布、排列、有序性等），提供從奈米到微米尺度的結構解析。